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索尔维二氧化铈CERIUM OXIDE LSA 5
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产品产地比利时
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包装规格
索尔维的铈氧化物HSA 5用于制造半导体的化学机械平面化（CMP）.CMP是一种平面化氧化硅，多晶硅和金属层表面浮雕的工艺。它用于平面化这些层，以便为光刻步骤做好准备.CMP使用与基板表面反应的化学物质，从而转化它（化学），磨料颗粒去除化学转化材料层（机械）。通过这种化学转变，与简单的机械抛光相比，平面化过程是相同的加速和改进的。
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CAS编号
1306-38-3
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全Q事业部
特殊化学
[123 ] - 参见
LSA5
| 化学类别 | 化学家族 | 化学产品 |
|---|---|---|
| 稀土氧化物 | 氧化铈 |
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